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飞秒激光光刻

/femtosecond laser lithography/
条目作者韩伟华

韩伟华

最后更新 2024-12-14
浏览 131
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主要基于多光子吸收效应使被曝光材料发生光化学反应的一种光刻技术。

英文名称
femtosecond laser lithography
所属学科
电子科学与技术

飞秒激光光刻主要利用多光子吸收效应来使光刻胶感光,因此可以直接在光刻胶等材料上制作二维甚至三维结构,而不需要复杂的光学系统和掩模版。多光子吸收效应是一种非线性光吸收效应,其吸收率正比于激光强度的平方。对于多光子曝光,只有在光强度大于多光子吸收阈值时,光化学反应才会发生。因此,光化学反应区被限制在焦点附近一个很小的区域,而非所有光路经过的地方。利用这一特点可以实现三维结构的曝光。

1997年,S.卡瓦塔(S.Kawata)等第一次报道了使用飞秒激光光刻制造的三维纳米结构。4年后,他们又制作了当时世界上最小的工艺品三维牛微雕。三维牛是基于聚合体材料制作的,其特征尺寸接近10微米。在他们的工作中,飞秒激光曝光的横向空间分辨率达到了100纳米,超越了衍射极限。之后,利用这一技术制作出来各种三维微雕工艺品,比如维纳斯雕塑、歌剧院和瓶子等。同时,利用这一技术制作的一些功能性器件也被报道出来,比如完整的三维光子晶体和光学驱动微系统等。飞秒激光光刻在三维聚合体结构制作方面有其独特的优越性。然而,这一技术本质上是通过一系列点处理实现结构的制作,因此,大规模生产对于飞秒激光光刻是一个问题。2005年,研究者通过透过微透镜阵列的辐射的辅助改善了这一状况。2016年,研究者发现利用极化效应可以优化特征尺寸,从而极化被认为是控制曝光效果的又一个关键参数。另外,相关领域一直在进行多束干涉、空间调制元件和相掩模等改善方法的研究。

飞秒激光光刻主要应用于三维光加工以及纳米光子器件的制作,也可应用于医学和生物学领域,如组织工程、药物输运等。可以预计,该项技术在新型功能性器件的发展中将会起到更重要的作用。

  • MARUO S, NAKAMURA O, KAWATA S.Three-dimensional microfabrication with two-photon-absorbed photopolymerization.Optics letters,1997,22(2):132-134.
  • KAWATA S, SUN H-B, TANAKA T, et al.Finer features for functional microdevices.Nature,2001,412(6848):697-698.
  • SERBIN J, EGBERT A, OSTENDORF A, et al.Femtosecond laser-induced two-photon polymerization of inorganic-organic hybrid materials for applications in photonics.Optics letters,2003,28(5):301-303.

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