Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体包括砷化镓(GaAs)、砷化铝(AlAs)、砷化铟(InAs)、砷化铝镓(AlGaAs)、砷化铟镓(InGaAs)、磷化铟(InP)、铝镓铟磷(AlGaInP)、氮化镓(GaN)、氮化铟镓(InGaN)、氮化铝镓(AlGaN)和铝铟镓氮(AlInGaN)等二元、三元或四元合金化合物半导体材料,其中镓(Ga)、铟(In)、铝(Al)是Ⅲ族元素,氮(N)、磷(P)、砷(As)是Ⅴ族元素。
Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体具有电子迁移率高和禁带宽度大等特性,在微波及光电器件领域得到广泛应用。
由元素周期表中Ⅲ族元素和V族元素形成的化合物半导体。
Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体包括砷化镓(GaAs)、砷化铝(AlAs)、砷化铟(InAs)、砷化铝镓(AlGaAs)、砷化铟镓(InGaAs)、磷化铟(InP)、铝镓铟磷(AlGaInP)、氮化镓(GaN)、氮化铟镓(InGaN)、氮化铝镓(AlGaN)和铝铟镓氮(AlInGaN)等二元、三元或四元合金化合物半导体材料,其中镓(Ga)、铟(In)、铝(Al)是Ⅲ族元素,氮(N)、磷(P)、砷(As)是Ⅴ族元素。
Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体具有电子迁移率高和禁带宽度大等特性,在微波及光电器件领域得到广泛应用。