高亮度、大功率的正装发光二极管要求其背面具有高反射率和高热导率特性。氮化镓（GaN）基发光二极管器件可以使用分布式布拉格反射膜（distributed Bragg reflector; DBR）。通过在芯片背面（蓝宝石面）蒸镀DBR，使到达芯片背面的光重新反射，是有效提高发光二极管取光效率的重要手段之一。对于使用在特定波段光谱段的高反射DBR膜主要有3种膜结构：金属层、介质层以及金属加介质层结构。①金属分布布拉格反射膜常用的金属反射材料包括银（Ag）、铝（Al）和铜（Cu）等。银膜的反射率在整个可见光区都较高，但银膜与基板的黏附力一般较弱，通常在镀银前添加非常薄的黏附连接层；铝膜在可见光区反射率也较高，略低于银膜，但铝膜在一部分紫外光波段仍有较好的反射能力，而银膜没有；铜膜对黄光、红光和红外光的反射能力较好，对蓝绿光的反射率较差。金属反射膜的反射率一般都不是很理想，但是金属反射膜对各个入射角的光线均能保持较高的反射率。②全介质型分布布拉格反射膜由多层高、低折射率材料交替形成，具有高反射率的周期结构。理论上，只要增加膜系的层数，反射率可以无限接近100%，但是这只是一部分入射角的情况，单纯的DBR膜无法保证从0°到90°的入射角都具有高反射率。此外，由于膜层中的吸收和散射损失，在膜系达到一定层数后，继续加镀两层并不能提高其反射率，有时甚至由于吸收和散射损失的增加而使反射率下降。③金属层+介质层的反射结构能克服这两种膜单独使用时各自的缺点，对各个入射角的光线均能实现很高的反射率，是一种比较理想的全向反射膜。但是，两种膜的叠加也增加了制造成本。

理想的透射膜只能采用介质膜，因为光在穿透金属膜时会被强烈吸收，而薄金属膜具有一定的透过率。早期的发光二极管曾采用镍金（NiAu）膜做电流扩展和透射膜。平面的介质膜层虽然对光的吸收很微小，但是根据折射定律，光从光密介质向光疏介质穿过时存在一个临界角，入射角大于临界角的光会被全反射，而且无论怎样设计平面介质膜都无法把这部分光抽取到外空间。透射膜的作用只能对小于临界角的入射光起到增加透射的作用。抽取这部分光的办法只有改变光或者界面的方向才能有效果，如表面粗化等。