根据前驱体物质状态，可将玻璃的制备方法分为液态制备玻璃、气态制备玻璃和固态制备玻璃3大类。

主要包括以下4种方法：①常规熔体冷却法。是工业生产和科学研究中普遍采用的方法。将玻璃配合料加热至熔化温度，使之熔化、澄清、均化而成无可见气泡的均质玻璃熔体，并在大气中冷却而固化成玻璃。②极端骤冷法。金属及强离子键物质，其熔体的黏度极小，在冷却过程中，质点极易移动而排列成晶格结构，因此采用常规冷却速度难以制得玻璃，须采用快速冷却（如早期金属玻璃的冷却速度达105～109℃/秒），使熔体的无定形状结构被快速地冷冻，或使质点因黏度增大而难以调整为晶格结构，从而制得玻璃。用该方法通常只能获得带、丝或直径为厘米级的棒状玻璃材料。③溶胶-凝胶法。以金属醇盐为前驱体，由水解反应获得溶胶，再通过缩聚反应形成凝胶，最后经高温烧结排除水分和有机物而转变成玻璃。④电解阳极氧化法。以金属或合金为阳极，采用电解方法使其表面形成非晶质氧化物薄膜。形成的薄膜可改变金属表面状态与性能，如颜色、耐蚀性、耐磨性及硬度等，进而保护金属。

主要包括以下两种方法。①物理气相沉积法（PVD）。将固体或液体材料的表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的玻璃质薄膜的方法，包括真空蒸镀、阴极溅射、等离子体镀、离子镀及分子束外延等方法。②化学气相沉积法（CVD）。将金属卤化物、金属有机化合物和其他气体混合，经高温加热发生化学反应，形成固体产物沉积而成玻璃。例如，将SiCl₄与O₂反应，形成比表面积很大（约20米²/克）的“烟灰”，将这种“烟灰”沉积在加热至足够高温度的靶上便可烧结成无气泡的高纯SiO₂玻璃。将SiH₄、PH₃和O₂，或SiCl₄、POCl₃和O₂混合气体以一定速率流过温度在1000℃以下的Si表面，可在Si表面生成SiO₂-P₂O₅玻璃薄膜。

主要包括以下4种方法：①研磨。晶态固体颗粒表面层质点在剪切应力作用下，其有序排列结构被逐渐破坏，从而实现非晶化。②冲击波法。对石英、长石等结晶体用爆破法施加60吉帕冲击波可实现其非晶化，石英晶体变成密度为2.22克/厘米³、折射率为1.46的玻璃。③放射线照射法。用一定强度的中子射线照射石英晶体，可使之非晶化。④热分解法。将固态酚醛树脂和糠醇加热、炭化可制得玻璃炭。