等离子体表面处理仪的清洗过程包括：①无机气体被激发为等离子态。②气相物质被吸附在固体表面。③被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子。④产物分子解析形成气相。⑤反应残余物脱离表面。其特点主要是：①不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。②采用数控技术，自动化程度高。③具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高。④正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证。⑤在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。等离子体表面处理仪的主要应用范围包括医用材料研究、电子领域、生物芯片领域、高分子材料研究、高端和精密研究材料的清洗和除污、光学材料的开发和研究等。