超净高纯试剂工艺过程包括选料、提纯、过滤、分装、储存等。超净高纯试剂品种主要有3类：①光致抗蚀剂，俗称光刻胶，是精细图形加工的关键材料之一。根据抗蚀剂的感光机理和成像作用的不同，分为正型或负型。根据射源的不同，分为紫外线曝光用抗蚀剂、远紫外线曝光用抗蚀剂、电子束曝光用抗蚀剂、X射线曝光用抗蚀剂。如聚甲基丙烯酸甲酯、聚1-丁烯砜、聚甲基异丙烯酮、聚氯甲基苯乙烯等。②金属氧化物半导体试剂，最大杂质极限要达到10^-10甚至10^-19以下。主要包括集成电路光刻工艺中使用的显影剂、清洗剂、去膜剂、稀释剂和腐蚀剂，也包括部分掺杂材料。例如乙酸、丙酮、氨水、无水乙醇、盐酸、双氧水、硫酸、三氯乙烯、二甲苯等。以上两类又称超净高纯试剂。③激光光导纤维用超高纯试剂，制造光导纤维的重要原料。与铜缆相比，光导纤维通信具有频率高、容量大、损耗小、质量轻和保密性强等优点。主要有超纯的二氧化硅、原硅酸乙酯、一氧化铅、三氧化二硼、三氧化二砷、碳酸钡、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钙、硝酸钠、硝酸钾等。有害杂质如铜、铁、钴、镍、锰、铬、钒的含量已下降到10^-9级。

超净高纯试剂是大规模集成电路（IC）及高档半导体器件制造过程的专用化学品。主要用于硅单晶片的清洗、光刻、腐蚀工序中，它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能、可靠性都有着重要的影响。