形状记忆合金的相变过程中各相变温度见图。其相变温度滞后()主要指发生马氏体正、逆相变之间的温度间隔,表示为
,工程上为简便也常用
表达。形状记忆合金的相变温度滞后通常为10~60℃。对于一些相变温度较低的记忆合金,则需在低温下变形、存储和运输,应用不便。因此开发Ti-Ni-Nb形状记忆合金,其在适当变形后的相变温度滞后可高达120℃以上,低温变形后可在常温下存储及运输。
宽滞后形状记忆合金主要指Ti-Ni-Nb合金。铌(Nb)在Ti-Ni基体中溶解度很低,和Ti-Ni形成伪二元共晶体系,在基体中主要以β-Nb粒子形式存在。β-Nb粒子较软,在变形过程中随基体变形,逆相变过程中,基体需克服β-Nb粒子的变形才能恢复到原始形状,因此导致奥氏体转变起始点()升高,相变温度滞后变宽。Ti-Ni-Nb形状记忆合金具有优良的冷热加工性能,制成的屏蔽电缆紧固环和罐状容器密封圈已进入实际应用,以其制成的管接头也进入小规模应用,正待推广。