是一种新型结构和功能材料。纯度达到99.999wt%和99.9999wt%的金属钨，记为5N和6N的高纯钨。选用杂质元素铀和钍浓度较低的仲钨酸铵作原料，通过多次结晶处理去除杂质，经煅烧得到三氧化钨；三氧化钨经高纯氢气还原成钨粉；再经压形、氢气烧结和电子束悬浮区域熔炼、等离子弧熔炼等方法可制取高纯钨。高纯钨的纯度分析可采用高灵敏度的化学或物理分析方法，如辉光放电质谱分析（GDMS）、中子活化分析（NAA）、二次离子质谱分析（SIMS）、残余电阻率测试法（RRR）等。俄罗斯通过相关工艺制取的高纯钨，其RRR值达到100000。

高纯钨及其硅化物、高纯钨钛合金等主要用于超大规模集成电路作为电阻层、扩散阻挡层等，在金属氧化物半导体型晶体管中作为门材料及连接材料等，以及各类溅射靶材、X光靶材、结构件、液晶显示膜、电子发射膜等。