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物理气相沉积

/physical vapor deposition/
最后更新 2023-05-24
浏览 145
最后更新 2023-05-24
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一种晶体、薄膜的生长方法。

英文名称
physical vapor deposition
所属学科
物理学

物理气相沉积是在真空条件下,利用蒸发或溅射,将材料源(固体或液体)转化为原子、分子或部分电离成离子的气相,再使这些携带能量的蒸发粒子沉积到基体表面,以形成晶体、薄膜。

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