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[{"ID":42423,"Name":"工学"},{"ID":80436,"Name":"电子科学与技术"},{"ID":80653,"Name":"纳米电子学"},{"ID":80664,"Name":"等离子体纳米电子学"},{"ID":80668,"Name":"等离子体光刻"}]
等离子体干涉光刻
/plasmonic interference lithography/
最后更新 2023-08-30
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利用表面等离子体波的干涉效应，产生干涉光场，并将其记录在光刻胶上，从而实现超分辨图形加工的等离子体光刻技术。
- 英文名称
- plasmonic interference lithography
- 所属学科
- 电子科学与技术
京公网安备 11010202008139号
