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相移掩模技术

/phase shift mask technology/
最后更新 2024-12-17
浏览 212
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集成电路制造中,在光刻环节同时利用光线的强度和相位来成像,得到更高分辨率的分辨率增强技术。

英文名称
phase shift mask technology
所属学科
电子科学与技术

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