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极紫外光刻技术

/extreme ultraviolet lithography technology/
最后更新 2024-12-14
浏览 233
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集成电路制造中,以波长为13.5纳米的极紫外光作为曝光光源的光刻技术。

英文名称
extreme ultraviolet lithography technology
所属学科
电子科学与技术

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