根据所使用的曝光光源波长，基于光子的光刻技术可以划分为紫外光光刻、深紫外光光刻和极紫外光光刻3类。其中深紫外光刻通常采用准分子激光光源，包括KrF准分子激光（248纳米）、ArF准分子激光（193纳米）和F₂准分子激光（157纳米）3种。由于157纳米光刻技术（投影物镜为反射式）研究已经终止，因此深紫外光刻技术通常指的是248纳米KrF光刻和193纳米ArF光刻，采用步进扫描方式。相比于紫外光光刻，深紫外波段材料对特定波长具有吸收特性，即使是熔石英、氟化钙、氟化镁这样能级带隙较宽的光学材料也不例外，这导致投影物镜的设计、制造和集成技术难度大幅增加，需要采用超精密光学制造技术以及透射式光刻机投影物镜。