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浸入式光刻技术
/immersion lithography technology/
最后更新 2023-08-31
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集成电路制造中，利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨力的光刻技术。一般指ArF（193纳米）浸入式光刻技术。
- 英文名称
- immersion lithography technology
- 所属学科
- 电子科学与技术
京公网安备 11010202008139号
