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I线光刻技术

/I-line lithography technology/
条目作者谢常青

谢常青

最后更新 2024-12-14
浏览 174
最后更新 2024-12-14
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集成电路制造中,基于汞灯产生的波长为365纳米曝光光源的投影光刻技术。

英文名称
I-line lithography technology
所属学科
电子科学与技术

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