首页 . 工学 . 电子科学与技术 . 集成电路 . 集成电路工艺 . 硅热氧化工艺

局部氧化

/local oxidation/
最后更新 2022-01-20
浏览 151
最后更新 2022-01-20
浏览 151
0 意见反馈 条目引用

在半导体硅片上的选定区域中形成低于衬底表面的二氧化硅,以实现器件隔离的集成电路制造工艺技术。

英文名称
local oxidation
所属学科
电子科学与技术

相关条目

阅读历史

    意见反馈

    提 交

    感谢您的反馈

    我们会尽快处理您的反馈!
    您可以进入个人中心的反馈栏目查看反馈详情。
    谢谢!