集成电路掩模版是沟通集成电路设计和集成电路制造的桥梁之一。基于集成电路设计数据生成集成电路掩模图形数据，是制造集成电路掩模版的基础。基于集成电路设计数据生成集成电路掩模图形数据的主要步骤（见图）包括：首先将布局布线之后所得集成电路版图设计进行面向制造设计（design for manufacturability，DFM）的哑金属填充，然后生成每一工艺层所需的几何图形，对需要采用多重光刻的工艺层将其上的几何图形分解/划分到若干掩模板，而其他工艺层的几何图形则分配到对应的掩模版，再对分配给每一掩模版的几何图形进行光学邻近校正，形成每一掩模版的掩模图形数据，最后对掩模图形数据进行检查，必要时可进行校正。
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[{"ID":42423,"Name":"工学"},{"ID":80436,"Name":"电子科学与技术"},{"ID":99037,"Name":"集成电路"},{"ID":99048,"Name":"集成电路计算机辅助设计"}]
. 工学 . 电子科学与技术 . 集成电路 . 集成电路计算机辅助设计掩模数据准备
/mask data preparation/
最后更新 2022-01-20
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基于集成电路设计数据生成集成电路掩模图形数据的过程。
- 英文名称
- mask data preparation
- 所属学科
- 电子科学与技术
集成电路掩模图形数据生成流程条目图册
京公网安备 11010202008139号
