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[{"ID":42423,"Name":"工学"},{"ID":80436,"Name":"电子科学与技术"},{"ID":80576,"Name":"传统半导体器件"},{"ID":80591,"Name":"【半导体工艺技术】"},{"ID":80595,"Name":"溅射工艺"}]
反应溅射
/reactive sputtering/
最后更新 2022-12-23
浏览 219次
具有一定能量的氩离子（Ar+）溅射金属或合金靶表面，被溅射出的金属原子和反应气体发生化学反应，在基体上形成化合物薄膜的技术。
- 英文名称
- reactive sputtering
- 所属学科
- 电子科学与技术
京公网安备 11010202008139号
