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快速热氧化
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rapid thermal oxidation
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rapid thermal oxidation
硅热氧化工艺
在极短的时间内通过快速升降温在高温下实现硅表面迅速热氧化的半导体制造工艺技术。是快速热处理工艺之一。
局部氧化
/
local oxidation
/
local oxidation
硅热氧化工艺
在半导体硅片上的选定区域中形成低于衬底表面的二氧化硅，以实现器件隔离的集成电路制造工艺技术。
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