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光刻技术
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photolithography technology
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photolithography technology
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集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。
激光直写光刻
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laser direct writing lithography
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laser direct writing lithography
光刻技术
利用强度可变的激光束对基片表面的抗刻蚀材料进行曝光，显影后在抗蚀层形成所需图形的过程。
纳米光学光刻
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optical nanolithography
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optical nanolithography
光刻技术
针对0.1～100纳米尺度的光学光刻。是纳米光刻技术的一个分支。
飞秒激光光刻
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femtosecond laser lithography
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femtosecond laser lithography
光刻技术
主要基于多光子吸收效应使被曝光材料发生光化学反应的一种光刻技术。
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