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薄膜沉积
/
thin film deposition
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thin film deposition
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将原子、分子或离子沉积在基片表面形成薄膜材料的技术。
蒸镀
/
evaporation
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evaporation
薄膜沉积
在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。
磁控溅射
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magnetron sputtering
/
magnetron sputtering
薄膜沉积
在溅射的基础上增加一个平行于靶平面的封闭磁场，运用靶材自身的电场与磁场的相互电磁交互作用，将二次电子束缚在靶表面的特定区域来增加电离效率，增加溅射出离子的能量和数量，从而实现高速沉积薄膜的方法。
原子层沉积
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atomic layer deposition; ALD
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atomic layer deposition; ALD
薄膜沉积
可以将物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面的方法。
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