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光刻机测量系统/ measurement system of lithography machine // measurement system of lithography machine /

光刻机中用于测量硅片面高度与倾斜度、硅片与掩模对准位置、投影物镜像质测量系统。

光栅衍射对准测量/ diffraction grating alignment measure /diffraction grating alignment measure
光刻机测量系统
在硅片面或被测物表面制作相位光栅标记，测量光束在照射至相位光栅标记后，产生多级衍射光束，通过光路结构使各级正负级次衍射光束相互发生干涉的测量方法。
在线波像差检测/ on-line wave aberration inspection /on-line wave aberration inspection
光刻机测量系统
基于曝光显影后的图像形状改变、空间像的位置改变，波前相位直接探测原理而进行的波像差测量方法。该测量直接在光刻机上进行，可定义为在线波像差测量系统。
掠入射调焦调平测量/ grazing incidence focusing and leveling measurement /grazing incidence focusing and leveling measurement
光刻机测量系统
以三角测量原理为基础的垂向测量方法，其通常采用双远心成像系统，并以较大的入射角在被测物表面成像。
双频干涉位移测量/ dual frequency interference measurement /dual frequency interference measurement
光刻机测量系统
利用双频氦氖激光器，以激光波长为基准，按多普勒频移和干涉原理产生干涉条纹进行几何量测量。