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光刻机测量系统
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measurement system of lithography machine
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measurement system of lithography machine
光刻机测量系统
光刻机中用于测量硅片面高度与倾斜度、硅片与掩模对准位置、投影物镜像质测量系统。
光栅衍射对准测量
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diffraction grating alignment measure
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diffraction grating alignment measure
光刻机测量系统
在硅片面或被测物表面制作相位光栅标记，测量光束在照射至相位光栅标记后，产生多级衍射光束，通过光路结构使各级正负级次衍射光束相互发生干涉的测量方法。
在线波像差检测
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on-line wave aberration inspection
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on-line wave aberration inspection
光刻机测量系统
基于曝光显影后的图像形状改变、空间像的位置改变，波前相位直接探测原理而进行的波像差测量方法。该测量直接在光刻机上进行，可定义为在线波像差测量系统。
掠入射调焦调平测量
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grazing incidence focusing and leveling measurement
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grazing incidence focusing and leveling measurement
光刻机测量系统
以三角测量原理为基础的垂向测量方法，其通常采用双远心成像系统，并以较大的入射角在被测物表面成像。
双频干涉位移测量
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dual frequency interference measurement
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dual frequency interference measurement
光刻机测量系统
利用双频氦氖激光器，以激光波长为基准，按多普勒频移和干涉原理产生干涉条纹进行几何量测量。
偏振照明
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polarization illumination
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polarization illumination
光刻机照明系统
以特定偏振照明模式进行曝光。
照明光瞳整形
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pupil shaping
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pupil shaping
光刻机照明系统
产生曝光所需的照明模式。
照明均匀化
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illumination homogenization
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illumination homogenization
光刻机照明系统
在硅片面形成均匀照明。
光刻机照明系统
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lithography illumination system
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lithography illumination system
光刻机照明系统
为投影物镜成像提供特定光线角谱和强度分布的照明光场。它是复杂的非成像光学系统，介于曝光光源和投影物镜之间。
超精密光机系统
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ultra-precision opto-mechanical system
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ultra-precision opto-mechanical system
光刻投影物镜
对光学元件进行精确空间定位与高精度面形支撑，同时实现物镜集成阶段的精密装调及使用阶段功能性补偿的光刻投影物镜。
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京公网安备 11010202008139号
